A ASML e a Intel anunciaram esta semana que a Intel atingiu um marco importante com o sistema de litografia High-NA da ASML, ligando sua fonte de luz e fazendo com que a luz alcance a resistência em um wafer, de acordo com um relatório da Reuters. Isso significa que a fonte de luz e os espelhos estão alinhados corretamente, um passo crítico no processo de fabricação. Este marco de “primeira luz” indica que um dos principais componentes do sistema Twinscan EXE:5000 está em operação, embora ainda não esteja atingindo máximo desempenho.
As máquinas litográficas Twinscan EXE High-NA EUV da ASML com óptica de projeção com abertura numérica de 0,55 podem atingir resolução de até 8 nm com uma única exposição – abaixo dos sistemas típicos de Low-NA EUV que oferecem uma resolução de 13,5 nm com uma única exposição. O primeiro desses sistemas está atualmente instalado no laboratório da ASML em Veldhoven, Holanda, enquanto o segundo está sendo montado em uma instalação da Intel perto de Hillsboro, Oregon.
“Tecnicamente, esta ‘primeira luz’ é na verdade a ‘primeira luz do wafer'”, explicou Marc Assinck, porta-voz da ASML. “A fonte de luz já estava funcionando, agora temos os fótons ‘em resistência’ no wafer.”
Os especialistas da ASML ainda estão calibrando a ferramenta High-NA na Holanda, portanto a máquina ainda precisa imprimir seus primeiros padrões de teste.
A descoberta foi inicialmente divulgada por Ann Kelleher da Intel na conferência de litografia SPIE em andamento em San Jose, Califórnia. A Intel está atualmente montando sua primeira máquina de litografia Twinscan EXE:5000 em sua instalação perto de Hillsboro, Oregon. A máquina será usada principalmente para fins de desenvolvimento de processos quando estiver montada vários meses depois.
Em um teste recente, a máquina Veldhoven demonstrou com sucesso suas capacidades em um wafer de silício preparado com fotorresistentes, indicando sua prontidão para impressão de padrões de circuito. Esta conquista, conhecida como ‘primeira luz no wafer’, marca um avanço significativo no campo da litografia EUV de alto NA.
Prevê-se que a litografia EUV de alto NA seja adotada pelos principais fabricantes de chips, incluindo Intel, Samsung e TSMC, nos próximos anos. A Intel já expressou intenções de utilizar o sistema em sua próxima geração de chips baseados em nó Intel 14A.
A fonte de luz é uma das partes mais complexas de qualquer ferramenta de litografia ultravioleta extrema (EUV). Nem a ASML nem a Intel divulgam o desempenho máximo (potência) da fonte de luz do Twinscan EXE.