A ASML respondeu às críticas dos analistas da SemiAnálise, afirmando que seus scanners High-NA estão no caminho certo e que os benefícios da tecnologia foram subestimados. Durante uma entrevista recente com Pedaços e batatas fritas, o CFO da ASML reforçou essa afirmação. O CEO da empresa também respondeu a perguntas sobre o relatório durante uma teleconferência de resultados, enfatizando que a nova tecnologia é “muito claramente a solução mais econômica tanto em lógica quanto em memória”.
Os scanners de litografia High-NA EUV da ASML são fundamentais para a produção de tecnologias de processo menores que 2 nm. No entanto, eles são consideravelmente mais caros e têm outras peculiaridades que levantaram questões sobre sua viabilidade econômica para todas as linhas de produção.
A ASML argumenta que a análise subestimou o valor da redução da complexidade do processo, evitando padrões dispendiosos e falhas associadas a tecnologias sem o uso do EUV. A empresa também menciona que a implementação da padronização dupla e quádrupla pode gerar tempos de produção mais longos e aumentar a variabilidade de desempenho dos chips produzidos.
Fabricação mais simples
A ASML alega que, apesar dos custos e desafios associados aos scanners High-NA, a redução da complexidade do processo e as melhorias na produtividade superam essas preocupações. Além disso, as ferramentas de litografia EUV de alto NA prometem simplificar os processos, melhorar os rendimentos e reduzir custos, apesar dos desafios existentes.
Enquanto a tecnologia de EUV de alto NA é vista como o futuro, a questão sobre sua viabilidade econômica para implantações em grande escala permanece em aberto, pois dependerá do comportamento dos fabricantes de chips e de futuros desenvolvimentos na indústria.