No ano passado, a Canon lançou sua primeira ferramenta de litografia de nanoimpressão (NIL), que poderia competir com os sistemas litográficos ultravioleta extremo (EUV) e ultravioleta profundo avançado (DUV) da ASML. Esta semana, a empresa disse que os primeiros clientes deverão receber a primeira máquina NIL neste ano ou no próximo, embora esta seja usada para testes, relata. Tempos Financeiros. As novas máquinas funcionam estampando uma impressão no wafer, em vez de gravar características com técnicas típicas de litografia, e supostamente usam 90% menos energia do que as máquinas EUV concorrentes da robusta ASML da indústria.
O chefe de operações de produtos ópticos da Canon, Hiroaki Takeishi, disse ao Financial Times que deseja que a Canon comece a enviar essas máquinas em 2024 e 2025. A tecnologia única permitirá a criação de chips simples, de baixo custo e de última geração.
A tecnologia de litografia por nanoimpressão da Canon, que está em desenvolvimento há mais de 15 anos, oferece uma nova abordagem à produção de chips, estampando designs de chips diretamente em pastilhas de silício. Este método radicalmente diferente contrasta com as tecnologias tradicionais de litografia DUV e EUV que dependem de lasers e resiste e promete ser significativamente mais barato e mais eficiente em termos energéticos. Na verdade, a Canon chega a dizer que a sua ferramenta NIL utiliza até 90% menos energia do que as ferramentas EUV da ASML. Além disso, o NIL pode ser usado para construir chips em uma tecnologia de processo de classe de 5 nm hoje e, eventualmente, pode evoluir para nós de classe de 2 nm, diz a empresa.
A Canon afirma que sua estratégia com suas máquinas de litografia de nanoimpressão não é substituir as ferramentas DUV e EUV das fábricas, mas sim coexistir com as ferramentas existentes. Se não fosse pelos chips lógicos, o NIL poderia ser usado para fazer NAND 3D, de acordo com Tempos Financeiros.
A introdução da litografia de nanoimpressão da Canon surge num momento em que a procura por sistemas de litografia é elevada. Além disso, a NIL oferece potencialmente ferramentas mais baratas e fabricação de chips mais barata. Como resultado, a entrada da Canon no mercado de ferramentas de ponta para fabricação poderia potencialmente perturbar o status quo atual, quando a ASML é o líder indiscutível em litografia.
No entanto, como o NIL é incompatível tanto com o DUV como com o EUV, a sua inserção nos fluxos de design atuais é complicada, para dizer o mínimo. Enquanto isso, não está claro se é possível desenvolver um processo de fabricação que dependa exclusivamente da litografia de nanoimpressão. Como resultado, o sucesso da litografia de nanoimpressão da Canon não está garantido, uma vez que enfrenta o ceticismo dos analistas da indústria.
“Se a tecnologia de nanoimpressão fosse uma tecnologia superior, acho que já estaria em funcionamento e no mercado em volume”, disse Richard Windsor, chefe da empresa de pesquisa Radio Free Mobile, em conversa com Tempos Financeiros.