ASML lança nova geração de ferramenta de fabricação de chips EUV para 2nm e além
Esta semana, a ASML entregou sua ferramenta de litografia ultravioleta extrema (EUV) de 3ª geração, o Twinscan NXE:3800E, com uma ...
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A TSMC está pronta para aumentar suas cotações em quase 25% a mais por wafer de 300 mm processado em ...